美国 KRI 射频离子源 RFICP 140

上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 离子束可聚焦, 平行, 散射.

离子束流: >600 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 

采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求.

离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.

非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀工艺.

伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:

伯东KRI 考夫曼离子源 RFICP 140 应用领域：

1.预清洗

2.表面改性

3.辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,

4.溅镀和蒸发镀膜 PC

5.离子溅射沉积和多层结构 IBSD

6.离子蚀刻 IBE

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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