氧化亚硅制备专用设备

 氧化亚硅真空升华炉是鸿峰窑炉自主设计、制造的专业应用于氧化亚硅材料制备的专用装备。

设备特点：

（1）生产方式：周期式生产

（2）加热区尺寸：加热区总长 1000mm，直径φ400mm

（3）装填量：约 100L

（4）收集区尺寸：长度 300mm , 直径约φ400mm

（5）使用功率：加热功率 30Kw（其中真空泵 1.5KW）

（6）额定电压：380V50HZ

（7）设计温度：RT~1350℃

（8）测温点：一个

（9）控温区数：一区

（10）温控精度：≤±2℃

（11）冷态极限真空度：≤100Pa（烘炉除气后且为空炉和冷态） 

（12）设备外形尺寸：L2610×W1000×H1750（mm）（以最终制造为准）