硅基负极专用CVD炉

该设备是一款专业应用于硅碳，硅氧碳，碳纳米管制备的CVD炉，具备高密封和均匀性，可连续式生产。

设备特点：

(1)该使用温度低于1000度

(2)该设备为连续式设备

(3)该设备为全密封结构

(4)该设备生产过程保护气体消耗量小

(5)该设备可以精确控制物料在炉内的停留时间

(6)该设备可以在一种或多种气氛下烧结

(7)该设备可以实现气相沉积烧结(CVD法制备硅碳)

(8)该设备炉管材料可以选择金属或非金属制作

(9)该设备温控精度高(≤2℃)

(10)该设备可以直接测试物料的温度

(11)该设备温控采用PLC+PID方式

(12)该设备的炉衬全部选用轻质高档耐火材料

(13)该设备产量大，能耗低，占地面积小